LCD(A) 低電流及平滑促進劑

 

                         一、概述:

                             LCD(A)低電流及平滑促進劑可以增加光澤鎳鍍層之平滑速率,特別是促進低電流密度區域之

                           平滑作用,使得低電流密度區有較佳之鏡面光澤。

                              二、用量:

                               一般用量為0.1-0.2cc/l,添加速率視需要而定,初期以添加0.1cc/l為基準,不足時再補加0.1cc/l。

                             、維護:

                                             每1000安培小時,補充30-60cc。

                             四、注意事項:

                                      本產品不可以使用於半光澤鎳鍍浴。

                             五、包裝:

                                30公斤/塑膠桶