LCD(A)
低電流及平滑促進劑
一、概述:
LCD(A)低電流及平滑促進劑可以增加光澤鎳鍍層之平滑速率,特別是促進低電流密度區域之
平滑作用,使得低電流密度區有較佳之鏡面光澤。
二、用量:
一般用量為0.1-0.2cc/l,添加速率視需要而定,初期以添加0.1cc/l為基準,不足時再補加0.1cc/l。
每1000安培小時,補充30-60cc。
四、注意事項:
本產品不可以使用於半光澤鎳鍍浴。
五、包裝:
30公斤/塑膠桶